Equipo de metalización por sputtering con magnetrón diseñado específicamente para el acabado de ruedas de automóvil y motocicleta. Esta máquina de alto vacío permite depositar capas metálicas uniformes y de alta calidad sobre llantas y piezas con geometrías complejas, ofreciendo un proceso controlado por ordenador y ciclos de metalización cortos (8–12 minutos por ciclo).
Características principales:
- Tecnología: sputtering por magnetrón en cámara de alto vacío para deposición PVD metálica.
- Sistema de vacío: equipada con criobomba (poli-fría) para lograr y mantener vacío profundo y permitir una metalización de alta eficiencia.
- Cátodos especiales: estructura de cátodos diseñada para alta proporción de sputtering, optimizando rendimiento y velocidad de depósito.
- Plataforma de substrato: rack con funciones de revolución, rotación y auto-rotación del substrato para garantizar uniformidad de recubrimiento en superficies curvas y complejas.
- Control: operación y control informatizado (PC/PLC) para programación de ciclos, monitorización y repetibilidad del proceso.
- Productividad: ciclos de metalización cortos (aprox. 8–12 minutos), adecuados para líneas de producción con necesidad de alto rendimiento.
Beneficios para clientes B2B:
- Acabado estético tipo cromado o metálico de alta calidad para ruedas y componentes decorativos.
- Alta uniformidad y reproducibilidad entre lotes, reduciendo retrabajos.
- Adecuado para producción en serie de ruedas de automóvil y motocicleta, con tiempos de ciclo optimizados.
- Menor consumo de material objetivo por eficiencia de sputtering y diseño de cátodos.
Aplicaciones típicas:
- Metalización de llantas y aros automotrices.
- Revestimiento decorativo y protector de componentes exteriores.
- Aplicaciones industriales que requieren recubrimientos metálicos finos y uniformes en piezas de geometría compleja.
Información que conviene confirmar al solicitar una cotización:
- Dimensiones internas de la cámara y diámetro/máxima altura y peso de substrato permitido.
- Tipos de blancos (targets) compatibles (Al, Cr, Ni, Cu, etc.) y número de cátodos instalables.
- Nivel de vacío alcanzable (mbar / Pa) y capacidad de la criobomba.
- Potencia y tipo de fuentes de sputtering (DC, pulsed DC, RF) y potencia por cátodo.
- Sistemas de gestión y software (PLC/PC, opciones de automatización, integración a línea de producción).
- Requisitos eléctricos, consumo energético y necesidades de refrigeración.
- Opciones de accesorios y repuestos (cátodos, puertas de carga, sistemas de manipulación, paneles de seguridad).
Si necesita, podemos preparar una lista de preguntas técnicas detalladas para enviar al proveedor o ayudarle a comparar ofertas según capacidad de producción, coste por parte y requisitos de mantenimiento.
Características
País de Origen:
China
Sector Industrial:
