Physical Vapor Deposition (PVD) metallization machine designed to apply metallic and functional coatings on substrates such as plastics, glass, films, optical components, and decorative pieces. These systems operate in a vacuum chamber and allow the production of thin, uniform, and adherent layers
Máquina de metalización por PVD (deposición física en vapor) diseñada para aplicar recubrimientos metálicos y funcionales sobre sustratos como plásticos, vidrio, películas, componentes ópticos y piezas decorativas. Estos sistemas trabajan en cámara de vacío y permiten obtener capas finas, uniformes
Company specialized in PVD metallization equipment and industrial production lines designed for applications in photovoltaic energy, functional glass, automotive, fiber, and roll-to-roll processes. The solutions are designed for B2B customers who require robust equipment, automation options, and
Empresa especializada en equipos de metalización PVD y líneas de producción industriales diseñadas para aplicaciones en energía fotovoltaica, vidrio funcional, automoción, fibra y procesos roll-to-roll. Las soluciones están pensadas para clientes B2B que requieren equipos robustos, opciones de
Vacuum evaporation metallization machine, vertical type with double door, designed to deposit metallic films and gold imitation finishes using the principle of thermal evaporation through resistive heating. Operates in a vacuum to achieve uniform, brilliant, and decorative layers on previously
Máquina de metalización por evaporación al vacío, tipo vertical con doble puerta, diseñada para depositar películas metálicas y acabados de imitación oro mediante el principio de evaporación térmica por calentamiento resistivo. Opera en vacío para obtener capas uniformes, brillantes y decorativas
Sputtering line for glass metallization with ITO deposition designed to produce conductive and transparent layers on glass substrates used in screens (LCD, PDP, OLED), touch panels, and other optoelectronic applications. Technology: vacuum magnetron sputtering with dual cathode system and medium
Línea de sputtering para metalización de vidrio con deposición de ITO diseñada para producir capas conductoras y transparentes sobre sustratos de vidrio usados en pantallas (LCD, PDP, OLED), paneles táctiles y otras aplicaciones optoelectrónicas. Tecnología: deposición por sputtering magnetrón en
Vacuum metallization machine with electron beam evaporation in horizontal configuration, designed for coating optical films, decorative films, and functional films on large-format substrates (glass, plastic panels) and for the series production of round parts (glass tubes, lamp tubes, strass
Máquina de metalización por vacío con evaporación por haz electrónico en configuración horizontal, diseñada para recubrir películas ópticas, películas decorativas y películas funcionales sobre sustratos de gran formato (vidrio, paneles plásticos) y para la producción en serie de piezas redondas
Vacuum arc PVD metallization equipment designed to deposit high-quality decorative and functional films through the combination of arc discharge, plasma, and reactive magnetron sputtering. Enables achieving gold film finishes (including saturated gold appearance) and other superior coatings for
Equipo de metalización por PVD diseñado para depositar películas decorativas y funcionales de alta calidad mediante la combinación de descarga por arco, plasma y sputtering magnetrón en proceso reactivo. Permite obtener acabados tipo película de oro (incluida apariencia de oro saturado) y otros