Sputtering line for glass metallization with ITO deposition designed to produce conductive and transparent layers on glass substrates used in screens (LCD, PDP, OLED), touch panels, and other optoelectronic applications. Technology: vacuum magnetron sputtering with dual cathode system and medium
Línea de sputtering para metalización de vidrio con deposición de ITO diseñada para producir capas conductoras y transparentes sobre sustratos de vidrio usados en pantallas (LCD, PDP, OLED), paneles táctiles y otras aplicaciones optoelectrónicas. Tecnología: deposición por sputtering magnetrón en
Vacuum metallization machine with electron beam evaporation in horizontal configuration, designed for coating optical films, decorative films, and functional films on large-format substrates (glass, plastic panels) and for the series production of round parts (glass tubes, lamp tubes, strass
Máquina de metalización por vacío con evaporación por haz electrónico en configuración horizontal, diseñada para recubrir películas ópticas, películas decorativas y películas funcionales sobre sustratos de gran formato (vidrio, paneles plásticos) y para la producción en serie de piezas redondas
Vacuum arc PVD metallization equipment designed to deposit high-quality decorative and functional films through the combination of arc discharge, plasma, and reactive magnetron sputtering. Enables achieving gold film finishes (including saturated gold appearance) and other superior coatings for
Equipo de metalización por PVD diseñado para depositar películas decorativas y funcionales de alta calidad mediante la combinación de descarga por arco, plasma y sputtering magnetrón en proceso reactivo. Permite obtener acabados tipo película de oro (incluida apariencia de oro saturado) y otros
Vacuum magnetron sputtering metal deposition equipment designed for PVD deposition of metallic films on various substrates. This is an updated sputtering technique that combines high deposition speed, lower process temperature, stable behavior, and simple handling, suitable for industrial production
Equipo de metalización por sputtering magnetrón en vacío diseñado para deposición PVD de películas metálicas sobre diversos sustratos. Se trata de una técnica de sputtering actualizada que combina velocidad de deposición elevada, menor temperatura de proceso, comportamiento estable y manejo sencillo
Magnetron sputtering metallization equipment specifically designed for the finishing of automotive and motorcycle wheels. This high-vacuum machine allows for the deposition of uniform, high-quality metal layers on rims and complex geometry parts, offering computer-controlled processes and short
Equipo de metalización por sputtering con magnetrón diseñado específicamente para el acabado de ruedas de automóvil y motocicleta. Esta máquina de alto vacío permite depositar capas metálicas uniformes y de alta calidad sobre llantas y piezas con geometrías complejas, ofreciendo un proceso
Roll-to-roll sputtering metalization equipment designed to coat polymer films and membranes in continuous industrial processes. Operates under high vacuum and is prepared to deposit metallic layers (e.g., aluminum) and composite/oxidant films through DC or MF (medium frequency) magnetron sputtering
Equipo de metalización por sputtering tipo rollo a rollo diseñado para recubrir películas y membranas poliméricas en procesos industriales continuos. Opera en alto vacío y está preparado para depositar capas metálicas (por ejemplo, aluminio) y películas compuestas/oxidantes mediante técnicas de